| Composition | leather; oil |
| Skin type | for all skin types |
| Texture | dry |
| Action | fixation; shine; radiance |
| Country of origin | Russia |
| Package contents | 1 pc |
Baked face powder Base 4U PP2306 No.
01 Light Beige.
Base 4U powder is a light and silky product for a matte and natural finish on the face.
The powder has a hypoallergenic formula, so it is suitable even for people with sensitive skin, perfectly conceals imperfections and gives your skin a velvety and luminous look.
A special baking technology promises maximum color brightness and makeup durability; with this powder you are completely unaffected by weather changes.
FEATURES:
Macadamia and vitamin E nourish, soften and rejuvenate the skin, relieving irritation and soothing it.
Sunflower oil and castor oil moisturize the skin, improve blood circulation and the rate of cell regeneration.
The composition also includes natural UV filters that protect your skin from the negative effects of ultraviolet rays and free radicals.
Parisa Пудра запеченная для лица № 01 Light Beige
| Состав | кожа; масло |
| Тип кожи | для всех типов кожи |
| Текстура | сухая |
| Действие | фиксация; блеск; сияние |
| Страна производства | Россия |
| Комплектация | 1 шт |
Пудра запеченная для лица Base 4U PP2306 № 01 Light Beige. Пудра Base 4U - это лёгкое и шелковистое средство для матового и естественного покрытия кожи лица. Пудра имеет гипоаллергенную формулу, поэтому подходит даже для людей с чувствительной кожей, прекрасно скрывает недостатки и придает вашей коже бархатистый и светящийся вид. Особая технология запекания состава обещает максимальную яркость цвета и стойкость макияжа, с этой пудрой вам совершенно не страшны перепады погоды.
ОСОБЕННОСТИ:
Макадамия и витамин Е питают, смягчают и омолаживают кожу, снимая раздражения и успокаивая ее.
Масло подсолнечника и касторовое масло увлажняют кожу, улучшают кровообращение и скорость регенерации клеток.
В состав так же входят натуральные УФ-фильтры, защищающие Вашу кожу от негативного воздействия ультрафиолетовых лучей и свободных радикалов.